顯影機(jī)該機(jī)采用先進(jìn)的單片微型機(jī)程序自動(dòng)控制，顯影質(zhì)量好工藝條件穩(wěn)定可靠適應(yīng)宜科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其它半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用。本機(jī)顯影工藝采用了先進(jìn)的噴霧方式，可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù)，程序時(shí)間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整，其程序?yàn)檠訒r(shí)吸片、顯影、漂洗、干燥、延時(shí)復(fù)位。采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整，特別是對(duì)較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。本設(shè)備除能實(shí)現(xiàn)顯影工藝外亦可進(jìn)行人工涂膠，工藝指標(biāo)與勻膠技術(shù)相同主要技術(shù)指標(biāo)型號(hào):121顯影工位：一個(gè)工位程序時(shí)間：顯影1 99秒漂洗1 99秒干燥1 99秒旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù)：500 8000轉(zhuǎn)/分（連續(xù)可調(diào)）硅片直徑： 30 75mm凈化效果：100級(jí)（美國(guó)聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn)）操作區(qū)風(fēng)速：0.3 0.5米/秒氣流狀態(tài)：垂直層流外形尺寸：650 750 1620mm