CMP拋光液
一、應(yīng)用領(lǐng)域
硅片、硬盤基片、二氧化硅、藍(lán)寶石、精密光學(xué)器件等的拋光。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)
1.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機(jī)械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質(zhì)量的拋光精度。
2.納米顆粒硬度適中，既可獲得高拋光速率，又能減少表面劃傷。
3.粒度可控，可根據(jù)客戶需要，定制不同粒度的產(chǎn)品（10-30 nm）。   
三、性能指標(biāo)
型號及標(biāo)準(zhǔn)：CMP30、 CMP50、CMP800、CMP100、CMP150
 粒徑大小(nm)：20-40、 40-60、60-90、100-130、140-170
 SiO2含量：30-40%
 pH值：10-12
 外觀：透明至乳白液體
 保質(zhì)期(月)：≥12
 四、使用方法
   1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。
   2.稀釋后，粗拋時(shí)調(diào)節(jié)pＨ至11左右，精拋時(shí)調(diào)節(jié)pH至9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分?jǐn)嚢柘侣尤搿?br>   3.循環(huán)拋光可以用原液。
五、包裝及儲存
   1．采用聚乙烯塑料桶包裝，主要包裝規(guī)格有25Kg、250Kg。
   2．貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為0-40℃。
   3．避免敞口長期與空氣接觸。