產(chǎn)品型號:堿性低氰鍍鋅光亮劑
種類 | 鍍鋅添加劑 | 類別 | 光亮劑 |
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | 國標(biāo) | 主要用途 | 用于低氰電鍍鋅 |
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高性能低氰鍍鋅光亮劑Cyanide Zinc Plating process一.特點(diǎn)1.光亮區(qū)寬,在0.2-10A/dm2的寬廣電流密度范圍內(nèi)可直接鍍得鏡面光亮的鍍鋅層,因而裝飾性良好,且鍍層均勻;適于采用低鉻鈍化,使六價(jià)鉻的污染大大降低;2.分散性均鍍性好,可以在復(fù)雜零件上獲得良好的光亮鍍層;3.適于高、中、低氰鍍液,與美國安美特公司H.T鋅光亮劑、臺灣萊德441完全兼容,不需特別處理鍍液即可補(bǔ)入,替代轉(zhuǎn)缸方便;4.不含醛類,在強(qiáng)堿性溶液中穩(wěn)定,消耗量低。二.推薦鍍液配方低氰(克/升)中氰(克/升)高氰(克/升)氧化鋅ZnO10-1515-2535-45氰化鈉NaCN15-2025-4070-90燒堿NaOH90-10080-9070-80(開缸時(shí)可加入純堿Na2CO3,10-15克/升)鋅光亮劑 4-5毫升/升陽極材料0號純鋅M值(氰鋅比)可在1.5至2.5之間選擇,低氰高堿時(shí)可略低。三.光亮劑的補(bǔ)充與維護(hù)(1)光亮劑消耗幅度為100-120毫升/千安時(shí),溫度高及滾鍍時(shí)消耗量略高;(2)光亮劑的補(bǔ)充方式應(yīng)采用少量多次的原則,光亮劑經(jīng)稀釋后補(bǔ)入。