HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。*基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。*性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結果。*人性化設計，具有穩(wěn)定標識和校準信息等顯示功能。*殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。*通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。*當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。測量項目 二氧化硫量程 0to400ppmofSO2解析度 1ppm精度 讀數(shù)的5%測量方法 滴定法測量原理 等電位氧化還原滴定法取樣量 50mLORP電極 HI3148B泵流量 0.5mL/min攪拌速率 1500rpm適用環(huán)境 0to50 C(32to122 F);max95%RH無冷凝供電方式 220V/60Hz;10VA尺寸重量 208x214x163mm；2200g