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供應(yīng)CNM優(yōu)質(zhì)高純二硼化鈦靶材

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品 牌: CNM 
型 號(hào): 多種規(guī)格 
單 價(jià): 面議 
起 訂: 1 件 
供貨總量: 9000 件
發(fā)貨期限: 自買(mǎi)家付款之日起 10 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 北京
有效期至: 長(zhǎng)期有效
更新日期: 2013-07-11 09:44
瀏覽次數(shù): 572
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公司基本資料信息
 
 
 
【供應(yīng)CNM優(yōu)質(zhì)高純二硼化鈦靶材】詳細(xì)說(shuō)明

產(chǎn)品品牌:CNM

產(chǎn)品型號(hào):多種規(guī)格


北京中金研新材料科技有限公司(CNM)是坐落于中關(guān)村科技園區(qū)的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè),由業(yè)內(nèi)龍頭企業(yè)為發(fā)起人,整合了國(guó)內(nèi)科研院校的優(yōu)勢(shì)資源,吸收國(guó)內(nèi)外先進(jìn)科學(xué)的管理經(jīng)驗(yàn)而成立。人才儲(chǔ)備豐富,資金力量雄厚,通過(guò)ISO9001:2008質(zhì)量體系及ISO14001:2004環(huán)境管理體系認(rèn)證,具有自主進(jìn)出口權(quán)。
北京中金研新材料科技有限公司在各種高純材料、鍍膜材料、濺射靶材、功能材料及應(yīng)用技術(shù)研究開(kāi)發(fā)方面,有著得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)。以堅(jiān)強(qiáng)的技術(shù)為基礎(chǔ),我公司開(kāi)發(fā)了多個(gè)系列的新材料,這些產(chǎn)品牌號(hào)約百余種。已在航空航天、軍工、信息電子、真空鍍膜、冶金、功能材料、生物醫(yī)藥、新能源等行業(yè)獲得廣泛應(yīng)用。目前擁有鍍膜材料、濺射靶材、高純材料、高純合金等多條生產(chǎn)線(xiàn),生產(chǎn)設(shè)備先進(jìn),工藝完善。
目前,我們的客戶(hù)遍及美國(guó).德國(guó).日本.韓國(guó).臺(tái)灣.香港等十幾個(gè)國(guó)家和地區(qū),包括國(guó)內(nèi)外科研軍工,上市公司等知名企事業(yè)在內(nèi)的六百余家單位。
北京中金研新材料科技有限公司下設(shè)鍍膜材料、濺射靶材、金屬粉末、高純材料等事業(yè)部,熱烈歡迎新老客戶(hù)垂詢(xún)。我公司秉承以誠(chéng)信為本,科技為本的理念,致力打造成金屬新材料行業(yè)的領(lǐng)頭羊。
磁控濺射靶材
(可為電子與半導(dǎo)體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車(chē)玻璃行業(yè),薄膜太陽(yáng)能電池行業(yè),磁存儲(chǔ)行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材)
高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N):鋁靶Al,鉻靶Cr,銅靶Cu,鎳靶Ni,硅靶Si,鍺靶Ge,鈮靶Nb,鈦鈀Ti,銦靶In,銀靶Ag,錫靶Sn,石墨靶C,鉭靶Ta,鉬靶Mo,金靶Au,鉿靶Hf,錳靶Mn,鋯靶Zr,鎂靶Mg,鋅靶Zn,鉛靶Pb,銥靶Ir,釔靶Y,鈰靶Ce,鑭靶La,鐿靶Yb,釓靶Gd,鉑靶Pt等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。
高密度陶瓷濺射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化鎂靶MgO、氧化釔靶Y2O3,氧化鐵靶Fe2O3,氧化鎳靶Ni2O3,氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鎘靶CdS,硫化鉬靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化鋯靶ZrO2、五氧化二鈮靶Nb2O5、二氧化鈦靶TiO2,二氧化鉿靶HfO2,二硼化鈦靶TiB2,二硼化鋯靶ZrB2,三氧化鎢靶WO3,三氧化二鋁靶Al2O3,五氧化二鉭靶Ta2O5、氟化鎂靶MgF2、硒化鋅靶ZnSe、氮化鋁靶AlN,氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化鈦靶TiN,碳化硅靶SiC,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶等高密度陶瓷濺射靶材.
備注:CNM生產(chǎn)的陶瓷靶材采用世界最先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝—惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù),相對(duì)密度大于95-99%。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
高純合金濺射靶材:鎳釩合金靶Ni-V,鎳鉻合金靶Ni-Cr,鈦鋁合金靶Ti-Al,硅鋁合金靶Si-Al,銅銦合金靶Cu-In,銅鎵合金靶Cu-Ga,銅銦鎵合金靶Cu-In –Ga,銅銦鎵硒靶Cu-In –Ga-Se,不銹鋼靶,鋅鋁合金靶Zn-Al,鎢鈦 W-Ti,鐵鈷 Fe-Co,白銅靶等高純合金濺射靶材。
備注:CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材:晶粒度小150-60um,相對(duì)密度高(99-99.9%),純度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。
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